光刻机核心部件仅ASML能造,中国企业花4年时间,如今正式攻克

笔者经常在网络上面看到有网友表示 , 不就是一台光刻机吗?有什么难的 , 以中国的科技实力 , 很快就能够突破这项技术 。 然而实际上并非大伙想象当中的那样简单 , 光刻机技术的繁琐是远远超过大家想象的 。

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如果要给现代科技进行排名的话 , 那么光刻机的排名必然是很高的 , 光刻机这项技术几乎已经是能够代表人类最顶尖的几项科技之一了 。 目前能够造光刻机的国家只有一个 , 那就是荷兰 , 其他的很多发达国家也无法在光刻机这项技术上面取得突破 。

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【光刻机核心部件仅ASML能造,中国企业花4年时间,如今正式攻克】如果说原子弹的研发难度是一的话 , 那么光刻机的研发难度至少达到了十 。 一部顶尖光刻机 , 光零件数量就高达十万多个 , 而一部汽车的零件数量也才只有两万多三万个 。 两者之间的差距可谓是相当明显 。 光刻机核心部件仅ASML能造 , 中国企业花4年时间 , 如今正式攻克 。

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对于光刻机而言 , 其中的最核心的部件就是“极紫外光源”、“光学镜头”以及“双工作台” 。 尤其是双工作台 , 更是光刻机技术核心中的核心 , 此前ASML集团能够打败日本的尼康和佳能就是得益于这项技术 。

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出乎全世界的意料 , 中国民营企业华卓精科突破了纳米级的极限 , 成为世界上第二家拥有这项技术的公司 。 尽管我也承认 , 中国光刻机整体技术确实是不如ASML , 但是在越来越多的核心部件技术上面 , 中国已经在不断地突破并超越了 。

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我们缺乏的是什么?是将这些核心部件“组装”起来 。 现在美国对我们国家使用芯片禁令 , 已经是极大地“提醒”我们要重视光刻机技术 , 所以国家已经正式出面 , 将国内的科技企业整合到了一起 , 大伙一起集中研发 , 我也相信 , 中国很快就能够在光刻机技术上面取得突破 。