实话实说,如果无法国产EUV光刻机,芯片自给率达到70%很难

众所周知 , 我们在芯片产业上有一个非常远大的目标 , 到2020年实现芯片自给率40% , 而到2025年时 , 芯片自给率更是要达到70% 。
而一旦达到70%之后 , 基本上也就宣告我们摆脱了对国外芯片的依赖了 , 就算还要进口 , 量也不太多了 , 毕竟只需要进口30%的芯片了 。

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很多人认为 , 接下来我们只要奔着这个方向去努力 , 芯片企业们不断地扩充产能 , 把产能提上来 , 然后多生产芯片 , 大家一起合力 , 就能够完成这个目标了 。
但事实上 , 我认为 , 如果我们无法国产EUV光刻机 , 只能眼巴巴的望着从ASML进口光刻机的话 , 要实现70%的芯片自给率 , 基本上不太可能 , 只能是一个无法实现的目标 。

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为何这么说?我们知道当芯片进入到7nm及以下时 , 必须用到EUV光刻机 , 目前全球仅有ASML能够生产 , 而国内买不到 。
而按照2020年的数据 , 中国进口芯片金额高达3500亿美元 , 占到全球芯片市场规模的近80%左右 , 而要实现70%的自给率 , 意味着中国要生产出至少全球50%以上的芯片才能够实现 。
而要生产出全球50%以上的芯片 , 意味着芯片技术必然要达到7nm或更高的水平 , 毕竟从台积电的代工情况来看 , 50%的芯片产能就必然要进入到7nm了 , 所以EUV光刻机是必不可少的 。

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所以说 , 要解决芯片自给率的问题 , 不仅仅是盯着国内芯片产能就够的 , 还要考虑到芯片生产的上、下游相关的设备、材料等等 。
【实话实说,如果无法国产EUV光刻机,芯片自给率达到70%很难】而如果要细究起来 , 光刻机其实还只是其中比较重要的环节之一 , 真要达到70%的自给率 , 还要考虑更多的配套的产品、材料、设备才行的 , 不解决这些问题 , 这个目标基本不可能实现 , 你觉得呢?