光刻胶|危机出现，日本企业部分断供光刻胶，国产自给率不到10% 日本

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在芯片的制造过程中，需要给晶圆涂上光刻胶，再用光刻机进行刻录。而光刻胶按照工艺的不同，也分为分别为g线、i线、KrF、ArF、EUV 。
g线、i线主要用于250nm以上工艺，相对落后；KrF一般用于250nm-130nm工艺；ArF一般用于130nm-14nm ，最多可以用于7nm DUV工艺；EUV光刻胶就是配合EUV光刻机，主要用于7nm及以下工艺。
在光刻胶领域，国内是比较落后的，总体自给率不足10% ，其中分开来看， g线/i线自给率约为20% ， KrF光刻胶的自给率不足5% ，至于ArF、EUV光刻胶，不好意思，无法生产， 100%得靠进口，自给率为0% 。
而日本是全球光刻胶领域最牛的国家，在g线/i线、KrF、ArF、EUV胶市场中市占率分别为61%、80%、93% ， 100% 。
所以日本厂商的光刻胶是全球的紧缺货，一旦日本不供应光刻胶，全球的芯片产业都要受到影响。
【光刻胶|危机出现，日本企业部分断供光刻胶，国产自给率不到10%】而近日，这样的事情终于发生了，据媒体报道称，由于KrF光刻胶产能受限，而全球芯片产能却不断扩产，再加上2月份的日本福岛地震，影响了光刻胶的产能。
所以日本的信越化学开始中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，甚至开始向部分中小晶圆厂停供KrF光刻胶，后续可能还会有更多的厂商，甚至会牵涉到ArF光刻胶的供应。
而KrF用于250nm-130nm工艺， ArF用于130nm-14nm工艺，这也正是国内众多晶圆厂使用的工艺，业内人士预测未来国内多家晶圆厂或将面临KrF、ArF光刻胶大缺货的处境。
目前中国正在大力发展半导体，不知道这件事情，有没有让大家感受到丝丝凉意？
事实上，在半导体材料、半导体设备等领域，目前国内的产业链确实还是比较落后的，依赖国外的地方也比较多，所以接下来，我们不仅仅要发展芯片制造本身，还需要加强对上游材料、设备等的重视和投入，你觉得呢？