从65nm到5nm，中国科技巨头打破垄断，坐拥“刻蚀机”1142项专利本文原创

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打破垄断，手握千项专利
全球芯片制造产业涉及到非常多的核心关键技术，缺少一项技术都有可能造成产业的停滞。尤其是头部的行业巨头，一项决策都会影响到行业的进程。
比如光刻机制造商ASML把持高端光刻机的制造技术，全球高端芯片都是由对方生产的EUV光刻机制造出来的。还有台积电领先的芯片代工制程，决定了在芯片产业内的分量。在这个行业内，没有谁是最重要的，因为每个参与供应链的企业都缺一不可。

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就拿芯片制造来看，外界只知道需要用上ASML的光刻机，却忽略了在光刻芯片之前，还需要使用薄膜制造和等离子体刻蚀设备。如果没有这类的刻蚀设备，是很难完成芯片制造的。

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面对如此重要的刻蚀机设备，中国科技巨头打破国外垄断，从65nm到5nm ，完成对美日韩等巨头的突围。在海归博士尹志尧的带领下，创办中微半导体，全力发展中国自主刻蚀机。
并且根据公开资料显示，中微半导体坐拥“刻蚀机”共1142项专利。

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中微半导体的发展目标
或许有些人对中微半导体比较陌生，也不明白刻蚀机具体是做什么的。首先中微半导体的创始人是尹志尧，毕业于中国科学技术大学，后海外留学加利福尼亚大学洛杉矶分校，获得物理化学博士学位。

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但尹志尧心系中国半导体产业，于是在2004年创办了中微半导体，此后便一直默默为中国半导体奉献。中微半导体主要生产刻蚀机，作用在于对金属或者集成电路半导体材料的表面进行蚀刻花纹、图案等等。
在半导体领域是芯片制造流程的重要环节，并且纳米精度越高，刻蚀的效果就越好。

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中微半导体的实力是不可小觑的，其生产的刻蚀机已经进入到5nm制程阶段，也是中国少数打入台积电供应链的大陆企业。不仅如此，中微半导体也曾为长江存储提供9台刻蚀机设备。
不过更大的市场还在等着中微半导体，仅放眼国内是不够的。据中微半导体创始人尹志尧博士称，在战略规划的准则中，不仅要重视核心竞争力的提升，同时也要加强多元化的发展。另外，进军国际市场对中微半导体未来的发展目标之一。

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很明显，中微半导体在国内取得了瞩目的成绩，但不会局限在国内，更大的发展目标是定位于国际市场。
中国半导体核心支柱
中国有非常多的半导体公司，不过涉及到实体工业的并不多。大部分公司为了避免半导体生产经济的风险，会选择较为简单的芯片设计。把设计好的芯片交给代工企业生产。

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可是这样一来，就会造成资源的倾斜，而中国半导体核心支柱需要更多像中微半导体，中芯国际这类的企业支撑。
所幸的是，我们也有自己的半导体行业支柱。不只是中微半导体，还有国产光刻机制造商上海微电子，负责双工件台的华卓精科，以及掌握曝光光学系统技术的长春国科等等。
这些都是中国半导体的核心支柱，他们各自负责不同的领域，构成中国芯片产业链的关键力量。有他们在，中国芯片一定能更加强大，取得更大的进步。

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总结
中微半导体从65nm制程到5nm制程的刻蚀机研发，走过了十多年。成功打破国外在核心技术上的垄断。但是这些还不够，因为国产半导体不能只靠一家企业，必须整个供应链都取得突破才行。
所以其余的国产芯片企业也仍需继续努力，助力中国芯片崛起，让真正的中国芯走向世界。
对中微半导体你有什么看法呢？欢迎在下方留言分享。
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