价值解析：江丰电子，这家公司是否值得长期持有？：价值解析：江丰电子

原标题：价值解析：江丰电子，这家公司是否值得长期持有？
今天我们一起梳理一下江丰电子，公司自成立以来一直从事高纯溅射靶材的研发、生产和销售业务，主要产品为各种高纯溅射靶材，包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等，这些产品主要应用于半导体（主要为超大规模集成电路领域）、平板显示、太阳能等领域。超高纯金属及溅射靶材是生产超大规模集成电路的关键材料之一，目前，公司的超高纯金属溅射靶材产品已应用于世界著名半导体厂商的先端制造工艺，在7纳米技术节点实现批量供货。

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公司在行业中经过多年积累，目前在客户资源及技术储备方面国内领先，遍布全球各地。对于台积电及中芯国际两大重要的半导体制造商，公司均已稳定供靶材产品多年，其中铝靶、钛靶、钽靶及环件等产品已经成为台积电主要供应商；铝靶、钛靶及钽环件、铜阳极材料等产品已经成为中芯国际主要供应商。此外，公司已经被格罗方德列入主要供应商名录，并开始大量采购靶材产品，除此之外，还包括、联华电子（UMC）、索尼（SONY）、东芝（TOSHIBA）、瑞萨（Renesas）、美光（Micron）、华虹宏力（HHGrace）、意法半导体（STM）、英飞凌（Infineon）、京东方（BOE）、华星光电（CSOT）、SunPower等国内外知名厂商。

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高纯金属溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.999%的金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

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薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。经过多年发展， PVD技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用。

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据立木信息咨询数据， 2017年全球溅射靶材市场容量达132.5亿美元，预计2020年全球溅射靶材市场规模超过200亿美元。

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溅射靶材主要应用在平板显示、光伏电池、半导体等领域。其中，在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵。

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半导体是金属溅射靶的主要应用领域之一，也是对靶材组成、结构和性能要求最高的领域。据智研咨询数据，中国半导体靶材市场规模2019年达47.7亿元，相比于2018年的35.1亿元同比增长35.9% 。随着智能手机、平板电脑、汽车电子等终端消费领域对半导体需求的持续增长，尤其是消费电子产品与互联网、移动互联网的紧密结合，导致手机、平板电脑、智能电视等网络接入终端产品的应用面持续扩大，预计全球半导体市场在未来将保持持续增长的态势。芯片产业是大数据、云计算、互联网的基础产业。这些产业的迅猛发展为芯片带来了强劲的市场需求。由于半导体行业所需溅射靶材品种繁多，且每一种需求量都较大，稳定的下游市场增速将有力地促进溅射靶材销售规模的扩大，据智研咨询数据，中国半导体靶材市场规模2022年预计达75.1亿元。